余乐成溪 作品

第106章 同样受限

说到这儿部长特别强调说:

“现在歼七4相对于mig21mf改进的地方已经够多了,再增加要求可能会造成系统上的风险。

空军那里我会过去谈,看他们认不认可这个方案。不管认不认可,这个项目改进的地方只能减少不能增多!

特别是那边不能在这个项目上再增加特殊要求,这要求往上加简单,但是一加要求,什么都得试,这点我会向上面汇报清楚。”

在定下调子后,大会也就结束了,涂总工和王所长在北都待了一天,本来打算万一空军那边有什么要想询问的,他们在北都也好亲自作说明。

谁知道第二天,他们就从部里得知,空军接受了他们推荐的改进方案,项目现在正式开始按这个方案进行正式设计。

在从三机部得到确切的指令后,两位总工带着消息回到了锦官城。回来后由王所长把会议的内容向全飞机设计室的同志作了传达。

在正式开始设计没几天,就有文件从三机部下来,112厂退出飞机设计室,专门负责歼八飞机的改进工作去了。

歼七4项目则从三厂共同生产改为两厂生产,生产进度也不再要求1982年就生产1000架出来,而是改为要求歼七4型战斗机1981年上天,1982年定型,1985年前由132厂和011基地共同生产出500架飞机即可,这个要求可变得实际多了。

从提出意见到积极配合辅助设计草案的制定,在这段时间里张红旗算是全身心地投入在其中,直到从三机部下来的消息确定了歼七4的具体设计方案后,他才把注意力从这件事上抽离出来。

这时候他才发现,在自己专心忙歼七4的时间里,南边的反击战早就已经在陆海同时打响。

对于这样的国之大事,张红旗知道其历史进程是不可改变的,因此倒也没有操心在这上面。不过他很高兴地从报纸上看到南海之上也有反击行动在进行。

除了这个之外,与张红旗切身相关的事,大概就属他在香江投资的集成电路公司最为重要。

这年头没有手机,联系的时候只能靠预留的电话或地址,张红旗因为随时可能因为工作要到处跑,所以给鲍启江留了北都和锦官城两个地方的联系方式。

刚开始的时候还好,因为这边拜托了尹裕光帮着联系国内的半导体厂家和研究所,那边也在花费时间和精力在美国考察光刻机的生产厂家。

不过随着事情有了进展,集成电路公司要进入实质性阶段时,两边联系的不方便立刻就显现出来了。

这天鲍启江好不容易打通长途电话,联系上了张红旗。

“张生,咱们可是说好了的,国外的设备采购和原材料采购我这边负责,国内你得帮我负责寻找技术人员。

现在我在国外这边有了进展,但要想和你商量一下,还真不容易。”

张红旗没管他后面说什么,听到他说在国外那边有了进展,就是到集成电路公司算是开了个好头。

“我这也是没办法,工作性质决定的,还望鲍先生见谅。就是不知道美国那边联系到的设备是个什么技术水平?”

见张红旗问到正事,鲍启江立刻就转变语气,非常正式地说起自己这边收集到的资料。

“从技术水平上来讲,现在可能算不上最先进的了。这个设备还是我前段时间通过关系,联系到了湾岛那边,从他们那儿得知的消息。

不知道你知不知道美国的 perkin elmer公司,这家公司在1973年的时候推出的这款设备。根据他们那边给出的资料,这款设备是世界上首台投影式光刻机。

他们那边宣称,micralign100分辨率可以做到2um,且投影式光刻下的对称光路设计可以消除球面镜产生的大部分像差,让芯片生产的良率从 10%提升到了 70%。

这个数据我找湾岛那边证实过,他们那边也是采购的这款设备,现在他们的试验生产线专门负责生产电子表集成电路,制造良率已经超过了美国rca。”

张红旗在电话中听到对称光路设计的时候总感觉跟

他的认知有所差异,于是赶紧在脑海中询问ai关于光刻机对称光路设计的相关信息。为了避免出现错误回答,他分别在几个大模型中多次询问,对比了全部答案才确信了解。

原来最早的投影式光刻机为扫描投影曝光,投影成像的比例为1:1。在生产的时候只通过一次扫描过程,就直接完成整个晶圆的曝光,这种生产方式属于逐片曝光。

在开始的时候使用这种方式还行,不过由于技术的进步,晶圆尺寸每隔几年就会增加,然后问题就出现了。

因为这种逐片曝光的方式,有一个最严重的问题,就是如何在越来越大的晶圆上形成精准图像。除开需要制造出更精准的光学器件外,1:1的投影成像比例也是一个问题。

因为摩尔定律表明,芯片的制程进步速度很快。使用这种1:1投影成像比例的光刻机就要求与芯片同样精度、且投影面积更大的掩模版,这种要求使得更加精细的掩模版制作难度显著提升。

张红旗搞明白了这一点后,马上追问道:

“这款设备听起来还行,不过我很好奇,现在最先进的光刻机是哪一家的,为什么不考虑他家的,是设备紧俏还是美国那边在销售上对我们有所限制?”

张红旗问的这个问题正是鲍启江最近几天烦恼的地方,于是他直接就说明了这几天他遇到的问题。

“更先进的那家也是美国公司,那家叫gca的公司在1978年推出的步进重复式光刻机。根据他们的宣传,使用他家的光刻机,可以大量节省在掩模版上的投入。

他们宣称他们的光刻机可以按10:1的比例投影,就因为这个,制作掩模版的时候就不用与集成电路一样精细,制作成本可以大大降低。

不过可惜的是,现在购买这款光刻机要排队,销售到香江来除了要审批外,还要接受他们派技术人员过来进行管理。”